光學薄膜分類匯聚大家庭

研究目標：不斷提升光學薄膜與功能薄膜理論水平，完善薄膜制備工藝，開**型測試方法。在國內實現**學科發展，滿足國家戰略需求的目的。 

主要研究方向如下： 

l 薄膜光學理論及成膜技術研究 

以電磁場理論為基礎，借鑒光子晶體理論和亞波長理論的相關知識，發展并完善薄膜光學理論；利用PVD和CVD手段進行薄膜沉積技術研究，在微尺度上研究不同工藝的成膜物理過程，結合各種檢測等對薄膜的特性進行準確表征和深入研究，實現成膜機理認識的突破。 

2 超大尺寸反射鏡鍍膜設備及工藝 

 針對超大尺寸反射鏡的特點，探索新的鍍膜方法，解決SiC反射鏡表面改性和高反射膜鍍制的難題，**國內超大型真空鍍膜設備制造的發展，研發配套工藝，為我國地基和天基應用的超大尺寸反射鏡鍍膜提供堅實的技術支持。 

3 新型硅基近紅外探測器光電材料研究 

通過對黑硅材料制備工藝、摻雜濃度、摻雜粒子種類、表面金屬納米顆粒沉積等方面的研究，深入探索黑硅材料的結構與特性，突破其在光電探測器件中應用的關鍵技術問題。 

 4 雷達與紅外隱身功能材料設計與制備工藝技術研究 

通過開展雷達隱身超材料的宏觀本構參數設計與反演技術、集總型有源可調控隱身材料與饋電網絡一體化設計技術、曲面激光刻蝕準確定位與材料**去除技術、多維復合紅外隱身材料的分析設計與工藝制備技術的研究，突破傳統雷達隱身材料性能局限和制造瓶頸，發展頻率可調控的有源隱身材料技術，建立起完備的設計、制造和測試條件保障，形成多功能雷達隱身材料的研制能力，實現多種型號應用，滿足國家重大戰略需求；以紅外隱身技術為切入點，探索紅外隱身材料新機理、新方法，**紅外隱身材料制備工藝，為**裝備的紅外隱身技術提供新思路、新技術。在此基礎上，進一步將研究工作拓寬到可見光隱身技術領域，為我所在先進光學技術領域開辟新方向。 

光學薄膜按應用分為反射膜、增透膜、濾光膜、

光學保護膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4種。光學反射膜用以增加鏡面反射率，常用來制造反光、折光和共振腔器件。光學增透膜沉積在光學元件表面，用以減少表面反射，增加光學系統透射，又稱減反射膜。光學濾光膜用來進行光譜或其他光性分割，其種類多，結構復雜。光學保護膜沉積在金屬或其他軟性易侵蝕材料或薄膜表面，用以增加其強度或穩定性，改進光學性質。*常見的是金屬鏡面的保護膜。

◆ 光學薄膜的應用無處不在，從眼鏡鍍膜到手機，電腦，電視的液晶顯示再到LED照明等等，它充斥著我們生活的方方面面，并使我們的生活更加豐富多彩。

◆ 光學薄膜的定義是：涉及光在傳播路徑過程中，附著在光學器件表面的厚度薄而均勻的介質膜層，通過分層介質膜層時的反射、透（折）射和偏振等特性，以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內的光的全部透過或光的全部反射或是光的偏振分離等各特殊形態的光。

◆ 光學薄膜可分為“幾何光學和物理光學”，幾何光學是通過光學器件表面形成的幾何狀的介質膜層，以使改變光路經來實現光束的調整或再分配作用；物理光學是將自然界中特有的光學材料元素通過納米處理至所需的光學器件表面形成的介質膜層，透過介質膜層的光學材料元素的特性增強於改變光偏振，透射，反射等功能。

◆ 通常光學薄膜的制備條件要求高而精，制備光學薄膜分干式制備法和濕式制備法，干式制備法（ 含真空鍍膜：蒸發鍍，磁控濺鍍，離子鍍等）一般用於物理光學薄膜的制備，濕式制備法（含涂布法， 流延法，熱塑法等）一般用於幾何光學薄膜的制備。

◆ 迄今為止（2013年）常用的光學薄膜有：高反射膜；減反射膜；濾光膜；濾色膜；增透膜；聚光膜；擴散膜；偏光膜等等。